業界特化型 技術・製品情報サイト
  • MONOist
  • EE Times Japan
  • EDN Japan
  • スマートジャパン
  • BUILT

EE Times Japan編集部

プレミアムコンテンツ

EE Times Japan編集部

高NA EUV露光装置の登場

コンテンツ情報
公開日 2024/08/16 フォーマット PDF 種類

プレミアムコンテンツ

ページ数・視聴時間 24ページ ファイルサイズ 2.54MB
要約
高NA EUV露光装置の登場
 今回は、ASMLが開発する「高NA(開口数) EUV露光装置」に関して、その技術への期待や初号機がIntelに設置されるまでの過程、さらに今後計画されている、NAが0.75の「Hyper-NA」EUV露光装置を含むロードマップなどを伝えた記事をまとめました。

収録記事
・ASMLの新型EUV装置、ムーアの法則を今後10年延長可能に
・ASML、初の高NA EUV露光装置をIntelに出荷
・1台3億8000万ドル、重量は150トン――明かされる高NA EUV露光装置のスケール
・Intelが高NA EUV装置の組み立てを完了、Intel 14Aからの導入に向けて前進
・重量はクジラ級! 超巨大な高NA EUV装置の設置をIntelが公開
・開口数0.75の「Hyper-NA」EUV装置 2030年に登場か

*)本ホワイトペーパーは、2021年11月~2024年6月にEE Times Japanで掲載した記事を再編集したものです。