高NA EUV露光装置の登場
ASMLが開発する「高NA EUV露光装置」に関して、その技術の概要や初号機がASMLから出荷されIntelに設置されるまでの過程などを伝えた記事をまとめた。
2024/08/16
ASMLが開発する「高NA EUV露光装置」に関して、その技術の概要や初号機がASMLから出荷されIntelに設置されるまでの過程などを伝えた記事をまとめた。
2024/08/16
ソニーグループの半導体事業について、2024年度の展望や今後の事業戦略などを伝えた記事をまとめた。
2024/07/19
「EE Times Japan×EDN Japan 統合電子版」の2024年7月号を発行しました。今号のEE Exclusive(電子版限定先行公開記事)は、『独り勝ちのNVIDIA、中国の対米規制: 2024年上半期の半導体業界を振り返る』です。
2024/07/16
2024年5月22~24日に開催された「人とくるまのテクノロジー展 2024 YOKOHAMA」に関するレポート記事をまとめた。
2024/07/12
電子機器の小型化や高性能化に伴い、自己放熱の減少などの問題が発生している。これらを解消する方法は、いくつかあるが、どれが効果的なのだろうか。そこで本資料では、各手法をシミュレーションし、その分析結果を解説する。
2024/07/03
「EE Times Japan×EDN Japan 統合電子版」の2024年6月号を発行しました。今号のEE Exclusive(電子版限定先行公開記事)は、『「embedded world 2024」レポート: エッジAIが本格化、「欧州最大規模」の組み込み技術展示会で見た最新トレンド』です。
2024/06/14
「EE Times Japan×EDN Japan 統合電子版」の2024年4月号を発行しました。今号のEE Exclusive(電子版限定先行公開記事)は、『カスタムか、標準か メモリベンダーの「生き残り戦略」を考察する 』です。
2024/04/15
「身近に溢れる半導体技術」に関するおすすめをまとめた。
2024/04/12
「EE Times Japan×EDN Japan 統合電子版」の2024年3月号を発行しました。今号のEE Exclusive(電子版限定先行公開記事)は、『ハイパースケーラーから自動車業界まで: 「カスタムシリコン」の黄金時代が近づく 』です。
2024/03/15
パワーデバイスの新たな材料として注目されるシリコンカーバイド(SiC)を使用して製品を開発する際、信頼性を証明するためのプロセスが不可欠だ。ある新技術を活用した新製品を例に、製品認定を成功に導く主なプロセスを解説する。
2024/03/06
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